Ankündigung Grafik für das Drucken der Seite Abbildung von Lerch / Current | Ion Implantation and Annealing Applications, Science and Technology | 1. Auflage | 2026 | beck-shop.de

Lerch / Current

Ion Implantation and Annealing Applications, Science and Technology

Contributions from IIT School, Edition 2024

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Fachbuch

Buch. Hardcover

2026

Springer. ISBN 978-3-032-10007-8

Format (B x L): 15,5 x 23,5 cm

Das Werk ist Teil der Reihe: Topics in Applied Physics

Produktbeschreibung

This book compiles the insights and teachings from the 2024 IIT School lectures, offering a comprehensive look at ion implantation and annealing in semiconductor manufacturing. It covers the history of integrated circuits, common applications in CMOS technology, ion sources, radiation damage, annealing of materials like silicon (Si), silicon carbide (SiC) and gallium nitride (GaN), and advances in cluster ion beam technology. This edition, enriched by expert contributions, serves as an essential reference for students and professionals in materials science and microelectronics.
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