Patentgesetz: PatG
Gebrauchsmustergesetz, Patentkostengesetz
12., neubearbeitete Auflage
C.H.BECK
ISBN 978-3-406-72789-4
Bibliografische Daten
Kommentar
Buch. Hardcover (Leinen)
12., neubearbeitete Auflage. 2023
Umfang: CXII, 2501 S.
Format (B x L): 16,0 x 24,0 cm
Gewicht: 2124
Verlag: C.H.BECK
ISBN: 978-3-406-72789-4
Produktbeschreibung
Dieser Klassiker
ist der führende Kommentar zum Patent- und Gebrauchsmusterrecht. In die Tiefe gehende und zugleich praxisorientierte Erläuterungen zeichnen den »Benkard« ebenso aus wie seine traditionelle Nähe zur Rechtsprechung des BGH. Das Werk bietet ein Autorenteam – überwiegend bestehend aus Richterinnen und Richtern, die vielfach selbst entscheidend die herrschende Meinung zum Patent- und Gebrauchsmusterrecht mitgeprägt haben. Mit jedem Detail bestens vertraut, zeichnen sie ein hochaktuelles, differenzierendes und rechtsprechungsorientiertes Bild des geltenden Rechts- und Meinungsstandes.
Die 12. Auflage
berücksichtigt u.a. aktuelle Fragen zur Lizenzierung standardessenzieller Patente (SEP) sowie zum Europäischen Patent mit einheitlicher Wirkung (EPeW) und dem Einheitlichen Patentgericht (EPG). Ebenfalls enthalten sind die Änderungen aufgrund des Zweiten Gesetzes zur Vereinfachung und Modernisierung des Patentrechts, wie insbesondere die Neuregelung des patentrechtlichen Unterlassungsanspruchs.
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