Erschienen: 31.01.1993 Abbildung von Schmitz | Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides for VLSI/ ULSI Applications | 1992

Schmitz

Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides for VLSI/ ULSI Applications

lieferbar, ca. 4 Wochen

ca. 58,79 €

inkl. Mwst.

1992. Buch. 251 S. Hardcover

William Andrew Publishing. ISBN 978-0-8155-1288-2

Format (B x L): 15,2 x 22,9 cm

In englischer Sprache

Produktbeschreibung

This monograph condenses the relevant and pertinent literature on blanket and selective CVD of tungsten (W) into a single manageable volume. The book supplies the reader with the necessary background to bring up, fine tune, and successfully maintain a CVD-W process in a production set-up. Materials deposition chemistry, equipment, process technology, developments, and applications are described.

Gesamtwerk

Die 8. Auflage ist wieder auf sechs Bände angelegt. Darin finden sich übersichtlich und in systematischer Gliederung Vertragsmuster aus der Feder erfahrener Experten. Jedem dieser Muster folgen Anmerkungen, mit denen der dem Vertragsentwurf zu Grunde liegende Sachverhalt und die Gründe für die Wahl des spezifischen Formulars erläutert werden.

Autoren

  • Dieses Set enthält folgende Produkte:
      Auch in folgendem Set erhältlich:
      • nach oben

        Ihre Daten werden geladen ...