Erschienen: 31.01.2011 Abbildung von Meliorisz | Simulation of Proximity Printing | 2011

Meliorisz

Simulation of Proximity Printing

Simulation der Nahfeldbelichtung

lieferbar (3-5 Tage)

2011. Buch. 134 S. Softcover

Shaker Verlag. ISBN 978-3-8322-9742-8

Format (B x L): 15.1 x 21.2 cm

Gewicht: 195 g

In englischer Sprache

Produktbeschreibung

Herkömmliche Maskenjustierer bieten eine kostengünstige Alternative zu den teuren Projektionsoptiken in der (Sub-)Mikrometer-Lithographie. In der Massenproduktion wird die einfachere Nahfeldbelichtung für die Herstellung von mikroelektromechanischen bzw. mikro-opto-elektromechanischen Systemen (MEMS bzw. MOEMS) und Flachbildschirmen an-gewendet. Die Nahfeldbelichtung wird auch an Universitäten und Forschungs-zentren häufig verwendet. In dieser Arbeit werden Methoden für die Simulation und Optimierung von Prozessen, die auf der Nahfeldbelichtung basieren, entwickelt und umgesetzt. Der gesamte lithographische Prozessfluss einschließlich Belichtung, Backen (post-exposure bake) und chemischer Entwicklung wird behandelt. Die Modelle berück-sichtigen eine breitbandige und partiell kohärente Belichtung und das Ausbleichen des Photolackes. Die Methoden sind sowohl für zwei- als auch für dreidimensionale Simulationen einsetzbar. Die Arbeit untersucht Techniken zur Verbesserung der Auflösung. Für die Simulation notwendige Lackparameter werden mit Hilfe von Kalibrierung ermittelt. Simulierte und experimentelle Lackprofile werden vergli-chen um die Gültigkeit der umgesetzten Modelle zu bestätigen.

Gesamtwerk

Die 8. Auflage ist wieder auf sechs Bände angelegt. Darin finden sich übersichtlich und in systematischer Gliederung Vertragsmuster aus der Feder erfahrener Experten. Jedem dieser Muster folgen Anmerkungen, mit denen der dem Vertragsentwurf zu Grunde liegende Sachverhalt und die Gründe für die Wahl des spezifischen Formulars erläutert werden.

Autoren

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