Erschienen: 30.04.1994 Abbildung von Gentili / Giovannella / Selci | Nanolithography | 1994

Gentili / Giovannella / Selci

Nanolithography

A Borderland between STM, EB, IB, and X-Ray Lithographies

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inkl. Mwst.

1994. Buch. xii, 216 S. Bibliographien. Hardcover

Springer. ISBN 978-0-7923-2794-3

Format (B x L): 15,5 x 23,5 cm

Gewicht: 1110 g

In englischer Sprache

Das Werk ist Teil der Reihe: Nato Science Series E:; 264

Produktbeschreibung

Success in the fabrication of structures at the nanometer length scale has opened up a new horizon to condensed matter physics: the study of quantum phenomena in confined boxes, wires, rings, etc. A new class of electronic devices based on this physics has been proposed, with the promise of a new functionality for ultrafast and/or ultradense electronic circuits. Such applications demand highly sophisticated fabrication techniques, the crucial one being lithography.
Nanolithography contains updated reviews by major experts on the well established techniques -- electron beam lithography (EBL), X-ray lithography (XRL), ion beam lithography (IBL) -- as well as on emergent techniques, such as scanning tunnelling lithography (STL).

Gesamtwerk

Die 8. Auflage ist wieder auf sechs Bände angelegt. Darin finden sich übersichtlich und in systematischer Gliederung Vertragsmuster aus der Feder erfahrener Experten. Jedem dieser Muster folgen Anmerkungen, mit denen der dem Vertragsentwurf zu Grunde liegende Sachverhalt und die Gründe für die Wahl des spezifischen Formulars erläutert werden.

Autoren

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